激光超精密制造技术实验室

本实验室的研究方向为光学制造新原理和新技术，重点面向光学制造技术中的共性关键问题，探索面向产业化应用的解决方法。在本团队已经取得的双光束超衍射极限精密技术系列成果的基础上，本实验室将双光束超衍射极限精密技术应用于芯片制造技术，研发双光束超衍射极限纳米光刻技术原理样机，并为利用该技术实现三维芯片制造提供光学制冷技术途径。